真空蒸發鍍膜法制備金屬鈰薄膜的表征

摘要：采用真空蒸發鍍膜法在不銹鋼基體上制備金屬鈰薄膜,利用掃描電子顯微鏡(SEM)和X射線衍射儀(XRD)研究鈰薄膜的形貌和物相結構,通過俄歇電子能譜儀(AES)和X射線光電子能譜儀(XPS)測量元素形態及膜層深度。分析結果表明:金屬鈰薄膜表面致密,與不銹鋼基體緊密結合,膜層的厚度約為24μm;金屬鈰薄膜的表面已經被氧化,氧化膜的厚度約為340 nm,其成分主要由CeO2組成,也含有少量的Ce2O3。