含POSS光刻膠材料研究進展

摘要：光致抗蝕劑又稱光刻膠,是微電子加工過程中的關鍵材料。多面體低聚倍半硅氧烷(POSS)是一種具有規則的籠型結構的聚合物增強材料,由POSS改性的聚合物實現了有機-無機納米雜化,POSS剛性結構的引入阻礙了聚合物分子的運動,可以顯著提高聚合物的玻璃化轉變溫度(T g),降低聚合物的介電常數,提高聚合物的力學性能,也提高了含POSS光致抗蝕劑的耐蝕刻性。基于這些優點,含POSS的光刻膠材料得到廣泛關注。本文對含POSS光刻膠的研究進展作了簡要介紹。