基于正交投影偏最小二乘法對復方首烏藤合劑抗失眠作用的譜效關系研究

摘要：目的 探討復方首烏藤合劑抗失眠作用與HPLC指紋圖譜間的相關性。方法 采用HPLC分析得到不同提取工藝條件下的復方首烏藤合劑指紋圖譜;腹腔注射 DL -4-氯苯丙氨酸建立大鼠失眠模型,用ELISA法測定大鼠海馬體5-HT的含量,采用正交投影偏最小二乘法分析譜效關系。結果 從指紋圖譜中共確定21個共有峰,12個峰的變量投影重要性(VIP)均>1.0,復方首烏藤合劑指紋圖譜中3個色譜峰對抗失眠發揮重要作用。結論 復方首烏藤合劑抗失眠作用的物質基礎與其所含多種成分共同作用的結果有關,通過譜效關系分析得到復方首烏藤合劑的抗失眠物質基礎,可為制劑的質量控制提供實驗依據。